METHOD OF UNLOADING AN OBJECT FROM A SUPPORT TABLE

• Main Authors: DE SIMONE GIOVANNA, ROSET NIEK JACOBUS JOHANNES, BLOKS RUUD HENDRIKUS MARTINUS JOHANNES, LAURENT THIBAULT SIMON MATHIEU, GERRITZEN JUSTIN JOHANNES HERMANUS, VAN DEN HEUVEL MARCO ADRIANUS PETER
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.10.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

대상물의 중앙 부분 아래에서 제1 압력을 지지 테이블의 중앙 영역으로 가하는 것; 및 대상물의 주변 부분 아래에서 제2 압력을 지지 테이블의 주변 영역에 가하는 것에 의하여 노광 공정 중에 지지 테이블에 클램핑된 대상물을 언로딩 공정 중에 지지 테이블로부터 언로딩시키는 방법이 제공되며, 지지 테이블의 상부 표면에서의 중앙 영역과 주변 영역 사이에서 반경 방향으로 위치되고 대상물을 향하여 돌출된 시일 부재와 대상물 사이에 액체가 유지되도록 클램핑 동안에 제1 압력과 상기 제2 압력이 제어되며, 본 방법은 제1 압력을 주위 압력을 향하여 증가시키는 것; 제2 압력을 감소시킴으로써 대상물과 시일 부재 사이에 유지되는 액체의 적어도 일부를 제거하는 것; 및 제2 압력을 주위 압력을 향하여 증가시키는 것을 포함한다. A method of unloading an object from a support table, the object clamped to the support table during an exposure process by: applying a first pressure to a central region of the support table under a central portion of the object; and applying a second pressure to a peripheral region of the support table under a peripheral portion of the object, wherein during clamping the first pressure and the second pressure are controlled such that liquid is retained between the object and a seal member that is positioned radially between the central region and the peripheral region at an upper surface of the support table and protrudes towards the object, the method including: increasing the first pressure towards ambient pressure; removing at least some of the liquid retained between the object and the seal member by decreasing the second pressure; and increasing the second pressure towards the ambient pressure.