SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

• Main Authors: SHINDO NAOKI, KUWAJIMA RYO, YAMAGUCHI HIROFUMI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 07.10.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention efficiently performs substrate processing using a processing gas. A substrate processing device for processing a substrate may include: a processing container for accommodating the substrate; a loading table provided inside the processing container and loading the substrate thereon; a partition wall provided inside the processing container and surrounding an outer circumference of the loading table; an inner air supply unit supplying a first gas to the inside of the partition wall; and an outside air supply unit supplying a second gas to an outside of the partition wall inside the processing container. 본 발명은, 처리 가스를 사용한 기판 처리를 효율적으로 행한다. 기판을 처리하는 기판 처리 장치이며, 기판을 수납하는 처리 용기와, 상기 처리 용기의 내부에 마련되어, 기판을 적재하는 적재대와, 상기 처리 용기의 내부에 마련되어, 상기 적재대의 외주를 둘러싸는 격벽과, 상기 격벽의 내측에 제1 가스를 공급하는 내측 급기부와, 상기 처리 용기의 내부에서 상기 격벽의 외측에 제2 가스를 공급하는 외측 급기부를 갖는다.