PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD OF MOUNTING ANNULAR MEMBER

When an annular member is mounted on a substrate support using a transportation device, the annular member is appropriately position-determined with regard to the substrate support. In a plasma processing system, the plasma processing system is equipped with: a plasma processing device that performs...

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Main Author MATSUURA SHIN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 04.10.2022
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Summary:When an annular member is mounted on a substrate support using a transportation device, the annular member is appropriately position-determined with regard to the substrate support. In a plasma processing system, the plasma processing system is equipped with: a plasma processing device that performs plasma processing for a substrate; a decompression transportation device connected to the plasma processing device; and a control device. [과제] 반송 장치를 이용하여 환상 부재를 기판 지지대 상에 장착할 때에, 환상 부재를 기판 지지대에 대해 적절히 위치결정한다. [해결 수단] 플라즈마 처리 시스템에 있어서, 기판에 대해 플라즈마 처리를 실행하는 플라즈마 처리 장치와, 상기 플라즈마 처리 장치에 접속된 감압 반송 장치와, 제어 장치를 구비하고, 상기 플라즈마 처리 장치는, 기판이 탑재되는 기판 탑재면 및 기판을 둘러싸도록 배치되는 환상 부재가 탑재되는 환상 부재 탑재면을 포함하는 지지부를 갖는 기판 지지대를 구비하고, 상기 기판 지지대는, 상기 환상 부재 탑재면에 대해 개구되는 복수의 삽통 구멍이 상기 지지부에 마련되며, 상기 삽통 구멍 각각 대해 마련되며, 상기 환상 부재 탑재면으로부터 돌출되도록 승강하는 리프터와, 상기 리프터를 승강시키는 승강 기구와, 상기 지지부의 온도를 조정하는 온도 조정 기구를 가지며, 상기 감압 반송 장치는, 상기 기판 지지대에 대해 기판을 반송하는 반송 기구를 구비하고, 상기 환상 부재의 바닥면에는, 상방에 오목하게 상기 리프터의 상단부가 들어가는 오목부가 형성되어 있으며, 상기 제어 장치는, 상기 환상 부재의 상기 오목부 각각의 위치와 대응하는 상기 리프터 및 상기 삽통 구멍의 위치가 일치하는, 미리 정해진 온도로, 상기 지지부의 온도를 조정하는 공정과, 상기 지지부의 상방으로, 상기 환상 부재를 반송하고, 상기 미리 정해진 온도로 조정된 상기 지지부의 상기 환상 부재 탑재면으로부터 돌출된 상기 리프터로 상기 환상 부재를 수취하고, 상기 환상 부재를 상기 환상 부재 탑재면에 탑재하는 공정을 실행하도록, 상기 승강 기구, 상기 온도 조정 기구 및 상기 반송 기구를 제어한다.
Bibliography:Application Number: KR20220034529