국부 균일성 메트릭을 추론하는 방법

제품 구조체와 관련된 적어도 하나의 국부 균일성 메트릭에 대한 값을 추론하는 방법이 개시되며, 본 방법은 타겟에 대한 측정으로부터 획득된 적어도 하나의 회절 차수와 관련된 세기 이미지를 포함하는 세기 데이터를 획득하는 것; 세기 이미지로부터 적어도 하나의 세기 분포를 획득하는 것; 적어도 하나의 세기 분포로부터, 적어도 하나의 회절 차수에 걸친 세기의 변화, 또는 세기 이미지에 걸친 2개의 상보적 회절 차수 사이의 세기 차이의 변화를 표현하는 세기 지표를 결정하는 것; 및 세기 지표로부터 적어도 하나의 국부 균일성 메트릭에 대한 값...

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Main Authors MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS, BHATTACHARYYA KAUSTUVE
Format Patent
LanguageKorean
Published 30.09.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:제품 구조체와 관련된 적어도 하나의 국부 균일성 메트릭에 대한 값을 추론하는 방법이 개시되며, 본 방법은 타겟에 대한 측정으로부터 획득된 적어도 하나의 회절 차수와 관련된 세기 이미지를 포함하는 세기 데이터를 획득하는 것; 세기 이미지로부터 적어도 하나의 세기 분포를 획득하는 것; 적어도 하나의 세기 분포로부터, 적어도 하나의 회절 차수에 걸친 세기의 변화, 또는 세기 이미지에 걸친 2개의 상보적 회절 차수 사이의 세기 차이의 변화를 표현하는 세기 지표를 결정하는 것; 및 세기 지표로부터 적어도 하나의 국부 균일성 메트릭에 대한 값을 추론하는 것을 포함한다. A method of inferring a value for at least one local uniformity metric relating to a product structure, the method including: obtaining intensity data including an intensity image relating to at least one diffraction order obtained from a measurement on a target; obtaining at least one intensity distribution from the intensity image; determining, from the at least one intensity distribution, an intensity indicator expressing a variation of either intensity over the at least one diffraction order, or a difference in intensity between two complimentary diffraction orders over the intensity image; and inferring the value for the at least one local uniformity metric from the intensity indicator.
Bibliography:Application Number: KR20227029949