ABNORMALITY DETECTION METHOD AND PROCESSING APPARATUS

• Main Authors: NAGAI FUMIAKI, KIKUCHI HIROAKI, TERASAWA NOBUTOSHI, NAGATA TOMOYUKI, FUKUDOME MOTOSHI, SASAKI KAZUAKI, MIYAHARA TATSUYA, YABE KAZUO, KIKAMA EIJI, KITAMURA MASAYUKI, HISHIYA SHINGO, TANABE YUKI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 01.09.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

The purpose of the present invention is to detect an abnormality in the supply of gas into a processing container of a processing apparatus. Provided is an abnormality detection method that includes the processes of: supplying a gas controlled at a predetermined flow rate to a gas supply pipe connected to a gas pipe through the gas pipe, and introducing the gas into the reaction region of the processing container of a processing apparatus through the gas hole of the gas supply pipe; measuring the pressure in the gas pipe with a pressure gauge attached to the gas pipe; and detecting an abnormality in at least one of the gas supply pipe and the gas pipe based on the measured pressure. 본 발명은 처리 장치의 처리 용기 내로의 가스의 공급의 이상을 검출하는 것을 목적으로 한다. 미리 정해진 유량으로 제어된 가스를, 가스 배관을 통해 상기 가스 배관에 접속된 가스 공급용 관에 공급하여, 상기 가스 공급용 관이 갖는 가스 구멍으로부터 처리 장치의 처리 용기 내의 반응 영역에 도입하는 공정과, 상기 가스 배관에 부착된 압력계에 의해 상기 가스 배관 내의 압력을 측정하는 공정과, 측정한 상기 압력에 기초하여, 상기 가스 공급용 관 및 상기 가스 배관 중 적어도 어느 하나의 이상을 검출하는 공정을 갖는 이상 검출 방법이 제공된다.