칼코게나이드 재료를 위한 보호 실란트 및 그 형성 방법

제조 공정의 후속 동작들 또는 단계들 동안 손상으로부터 저장 소자 재료와 같은 재료를 보호하기 위해 라이너를 형성하는 기술들이 설명된다. 라이너는 강한 본딩 또는 약한 본딩을 사용하여 재료(예를 들어, 칼코게나이드 재료)에 본딩될 수 있다. 일부 경우에, 후속 에칭 동작이 방금 에칭된 재료를 손상시키는 것을 방지하기 위해 제조 공정의 에칭 단계 동안 실란트 재료가 증착될 수 있다. Techniques are described to form a liner to protect a material, such as a storage ele...

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Main Authors LUGANI GURPREET S, GOOD FARRELL M, GRUBBS ROBERT K
Format Patent
LanguageKorean
Published 30.08.2022
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:제조 공정의 후속 동작들 또는 단계들 동안 손상으로부터 저장 소자 재료와 같은 재료를 보호하기 위해 라이너를 형성하는 기술들이 설명된다. 라이너는 강한 본딩 또는 약한 본딩을 사용하여 재료(예를 들어, 칼코게나이드 재료)에 본딩될 수 있다. 일부 경우에, 후속 에칭 동작이 방금 에칭된 재료를 손상시키는 것을 방지하기 위해 제조 공정의 에칭 단계 동안 실란트 재료가 증착될 수 있다. Techniques are described to form a liner to protect a material, such as a storage element material, from damage during subsequent operations or phases of a manufacturing process. The liner may be bonded to the material (e.g., a chalcogenide material) using a strong bond or a weak bond. In some cases, a sealant material may be deposited during an etching phase of the manufacturing process to prevent subsequent etching operations from damaging a material that has just been etched.
Bibliography:Application Number: KR20227025975