환기 챔버를 갖는 에어로졸 발생 시스템

에어로졸 발생 물품(1) 및 에어로졸 발생 장치(20)를 포함하는 에어로졸 발생 시스템 (200)이 제공된다. 에어로졸 발생 물품은 에어로졸 형성 기재의 로드(12) 및 에어로졸 형성 기재의 로드의 하류에 위치된 필터(14-16-18)를 포함한다. 에어로졸 형성 기재의 로드 및 필터는 래퍼(22) 내에 조립된다. 에어로졸 발생 물품은 래퍼 상에 위치된 환기 구역(26)을 포함한다. 환기 구역은 래퍼를 통해 연장되는 복수의 애퍼처를 포함한다. 에어로졸 발생 장치는 원위 단부 및 마우스 단부(2)를 갖고, 하우징(4) 및 에어로졸 발생...

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Main Authors JORDIL YVES, MINZONI MIRKO
Format Patent
LanguageKorean
Published 29.08.2022
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Summary:에어로졸 발생 물품(1) 및 에어로졸 발생 장치(20)를 포함하는 에어로졸 발생 시스템 (200)이 제공된다. 에어로졸 발생 물품은 에어로졸 형성 기재의 로드(12) 및 에어로졸 형성 기재의 로드의 하류에 위치된 필터(14-16-18)를 포함한다. 에어로졸 형성 기재의 로드 및 필터는 래퍼(22) 내에 조립된다. 에어로졸 발생 물품은 래퍼 상에 위치된 환기 구역(26)을 포함한다. 환기 구역은 래퍼를 통해 연장되는 복수의 애퍼처를 포함한다. 에어로졸 발생 장치는 원위 단부 및 마우스 단부(2)를 갖고, 하우징(4) 및 에어로졸 발생 물품이 장치 공동 내에 수용될 때 에어로졸 형성 기재를 가열하기 위한 히터를 포함한다. 하우징은 주변 벽을 포함한다. 주변 벽은 장치의 마우스 단부에서 에어로졸 발생 물품을 제거 가능하게 수용하기 위한 장치 공동을 정의한다. 에어로졸 발생 시스템은 에어로졸 발생 물품이 장치 공동 내에 수용될 때, 에어로졸 발생 물품의 환기 구역이 장치 공동 내에 위치되고, 환기 구역 위에 놓이는 주변 벽의 내부 표면의 일부가 에어로졸 발생 물품으로부터 이격되도록 구성된다. An aerosol-generating system is provided, including: an aerosol-generating article including a rod of aerosol-forming substrate, a filter downstream of the rod, the rod and the filter being assembled within a wrapper, and a ventilation zone located on the wrapper and including apertures extending through the wrapper; and an aerosol-generating device including distal and mouth ends, a housing including a peripheral wall defining a device cavity to removably receive the article at the mouth end, and a heater to heat the substrate when the article is received within the device cavity, such that, when the article is received within the device cavity, the ventilation zone is located within the device cavity and a portion of an internal surface of the peripheral wall overlying the zone is spaced apart from the article to define a ventilation chamber within the peripheral wall.
Bibliography:Application Number: KR20227025065