순수 제조 방법, 순수 제조 시스템, 초순수 제조 방법 및 초순수 제조 시스템

본 발명은 막 탈기 장치를 사용하지 않고, 안정적인 운전이 가능한 초순수 제조 방법 및 초순수 제조 시스템을 제공하는 것으로, 피처리수를, 제1 역침투막 장치(2)로 처리한 후, 계속해서, 전기식 탈이온 장치(3) 및 붕소 제거 장치(4)의 순서로 처리하여, 붕소 농도가 1ng/L 이하인 초순수를 얻는 초순수 제조 방법으로서, 전기식 탈이온 장치(3)의 피처리수가, 탄산을 1㎎/L 초과 함유하고, 전기식 탈이온 장치(3)의 처리수가, 탄산이 제거되고, 붕소를 1㎍/L 이하 함유하는 초순수 제조 방법에 관한 것이다. Provided...

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Main Authors KIMOTO HIROSHI, NOGUCHI YUKIO
Format Patent
LanguageKorean
Published 17.08.2022
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Summary:본 발명은 막 탈기 장치를 사용하지 않고, 안정적인 운전이 가능한 초순수 제조 방법 및 초순수 제조 시스템을 제공하는 것으로, 피처리수를, 제1 역침투막 장치(2)로 처리한 후, 계속해서, 전기식 탈이온 장치(3) 및 붕소 제거 장치(4)의 순서로 처리하여, 붕소 농도가 1ng/L 이하인 초순수를 얻는 초순수 제조 방법으로서, 전기식 탈이온 장치(3)의 피처리수가, 탄산을 1㎎/L 초과 함유하고, 전기식 탈이온 장치(3)의 처리수가, 탄산이 제거되고, 붕소를 1㎍/L 이하 함유하는 초순수 제조 방법에 관한 것이다. Provided are an ultra-pure water production method, an ultra-pure water production system, a pure water production method, and a pure water production system, allowing for a stable operation without using a membrane degassing device. The ultra-pure water production method comprises processing water to be processed via a first reverse-osmosis membrane device 2, and then continuing the processing with an electric-type deionization device 3 and a boron removal device 4 in this order, to obtain an ultra-pure water having a boron concentration of 1 ng/L or lower. In the ultra-pure water production method, the water to be processed for the electric-type deionization device 3 contains over 1 mg/L of carbonic acid, and the processed water from the electric-type deionization device 3 contains 1 μg/L or less boron, the carbonic acid having been removed therefrom.
Bibliography:Application Number: KR20227015645