반도체 리소그래피용 투영 노광 장치

본 발명은 거울(50)을 포함하는 반도체 리소그래피용 투영 노광 장치(1)에 관한 것으로, 거울(50)은 적어도 하나의 절결부(53), 거울(50)의 절결부(53)에 접촉 없이 배열되고 공동(33, 43)을 갖는 온도 조절 본체(31, 41)를 포함하는 방사선에 기초하여 온도를 조절하기 위한 온도 조절 디바이스(30, 40)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 온도 조절 본체(31)의 온도 조절을 위한 유체(39)가 공동(33, 43)에 존재한다. The invention relates to a projection exposure ap...

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Main Authors HARTJES JOACHIM, GRUNER TORALF, WOLF ALEXANDER
Format Patent
LanguageKorean
Published 12.08.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:본 발명은 거울(50)을 포함하는 반도체 리소그래피용 투영 노광 장치(1)에 관한 것으로, 거울(50)은 적어도 하나의 절결부(53), 거울(50)의 절결부(53)에 접촉 없이 배열되고 공동(33, 43)을 갖는 온도 조절 본체(31, 41)를 포함하는 방사선에 기초하여 온도를 조절하기 위한 온도 조절 디바이스(30, 40)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 온도 조절 본체(31)의 온도 조절을 위한 유체(39)가 공동(33, 43)에 존재한다. The invention relates to a projection exposure apparatus (1) for semiconductor lithography, comprising a mirror (50), wherein the mirror (50) comprises at least one cutout (53), a temperature-regulating device (30,40) for regulating temperature on the basis of radiation comprising a temperature-regulating body (31,41), which is arranged without contact in the cutout (53) of the mirror (50) and which has a cavity (33,43). According to the invention, a fluid (39) for temperature regulation of the temperature- regulating body (31) is present in the cavity (33,43).
Bibliography:Application Number: KR20227022980