가스 분리막, 가스 분리막 엘리먼트, 및 가스 제조 방법

• Main Authors: IIZUKA RINA, HASEGAWA YOKO, HIROZAWA HIROHO, TOKUYAMA TAKAHIRO, YAMADA HIROYUKI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.08.2022
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SEPARATION; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; TRANSPORTING

수소 및 헬륨 등의 경가스의 분리 선택성을 향상시키는 것을 과제로 한다. 본 발명의 가스 분리막은 다공성 지지층과, 상기 다공성 지지층 상에 형성되고, 가교 폴리아미드를 함유하는 분리 기능층을 구비하고, 상기 분리 기능층은 복수의 볼록부와 오목부를 구비하는 주름 구조를 갖고, 상기 분리 기능층의 표면을 원자간력 현미경에 의해 25℃의 순수 중에서 관찰했을 때 임의의 볼록부 20개소를 3nN의 힘으로 밀어 넣었을 때의 변형량의 평균값이 5.0㎚ 이상 10.0㎚ 이하이며, 또한 상기 변형량의 표준 편차가 5.0㎚ 이하이다. The present invention aims to improve the separation selectivity for light gases such as hydrogen and helium. The gas separation membrane according to the present invention includes a porous support layer and a separation functional layer containing a cross-linked polyamide and laid on the porous support layer, wherein: the separation functional layer has a protuberance structure containing a plurality of protrusions and recesses; randomly selected 20 of the protrusions on the surface of the separation functional layer indented under a load of 3 nN and observed in pure water at 25° C. by atomic force microscopy give an average deformation of 5.0 nm or more and 10.0 nm or less; and they give a standard deviation of the deformation of 5.0 nm or less.