감광성 조성물, 경화물, 및 경화물의 제조 방법

• Main Authors: CHISAKA HIROKI, MISUMI KOICHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.08.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

높은 투명성을 구비하는 경화물을 형성 가능한 감광성 조성물과, 당해 감광성 조성물의 경화물과, 전술의 감광성 조성물을 이용하는 경화물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 광 중합성을 가지는 기재 성분(A)과, 광 중합 개시제(B)를 포함하는 감광성 조성물에 있어서, 기재 성분(A)으로서 실리콘 수지를 이용하고, 또한 광 중합 개시제(B)로서, 포스핀 옥사이드 화합물(B1)과, 옥심 에스테르 화합물(B2)을, 특정의 비율로 조합하여 이용한다. A photosensitive composition capable of formin...