감광성 조성물, 경화물, 및 경화물의 제조 방법

높은 투명성을 구비하는 경화물을 형성 가능한 감광성 조성물과, 당해 감광성 조성물의 경화물과, 전술의 감광성 조성물을 이용하는 경화물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 광 중합성을 가지는 기재 성분(A)과, 광 중합 개시제(B)를 포함하는 감광성 조성물에 있어서, 기재 성분(A)으로서 실리콘 수지를 이용하고, 또한 광 중합 개시제(B)로서, 포스핀 옥사이드 화합물(B1)과, 옥심 에스테르 화합물(B2)을, 특정의 비율로 조합하여 이용한다. A photosensitive composition capable of formin...

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Main Authors CHISAKA HIROKI, MISUMI KOICHI
Format Patent
LanguageKorean
Published 02.08.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CHEMISTRY
CINEMATOGRAPHY
COMPOSITIONS BASED THEREON
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
MATERIALS THEREFOR
METALLURGY
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Summary:높은 투명성을 구비하는 경화물을 형성 가능한 감광성 조성물과, 당해 감광성 조성물의 경화물과, 전술의 감광성 조성물을 이용하는 경화물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 광 중합성을 가지는 기재 성분(A)과, 광 중합 개시제(B)를 포함하는 감광성 조성물에 있어서, 기재 성분(A)으로서 실리콘 수지를 이용하고, 또한 광 중합 개시제(B)로서, 포스핀 옥사이드 화합물(B1)과, 옥심 에스테르 화합물(B2)을, 특정의 비율로 조합하여 이용한다. A photosensitive composition capable of forming a cured product with high transparency, a cured product of the photosensitive composition, and a method for producing the cured product using the photosensitive composition. In a photosensitive composition including a base component having photopolymerizability and a photopolymerization initiator, a silicone resin is used as the base component, and a phosphine oxide compound and an oxime ester compound as a photopolymerization initiator are used in combination at a specific ratio.
Bibliography:Application Number: KR20227021743