촬상 소자 및 촬상 소자의 제조 방법

본 개시의 한 실시 형태의 촬상 소자는, 일방향으로 연신하는 복수의 제1 배선을 갖는 제1 배선층과, 제1 배선층에 적층되고, 이웃하는 복수의 제1 배선 사이에 공극을 형성하는 제1 절연막과, 제1 절연막에 적층됨과 함께, 표면이 평탄한 제2 절연막과, 제1 절연막 및 제2 절연막을 사이에 두고, 복수의 제1 배선의 적어도 일부와 정대(正對)하는 제1 도전막을 구비한다. An imaging device according to an embodiment of the present disclosure includes: a first wi...

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Main Authors MIZUNO IKUE, HANEDA MASAKI, KAMESHIMA TAKATOSHI
Format Patent
LanguageKorean
Published 19.07.2022
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 개시의 한 실시 형태의 촬상 소자는, 일방향으로 연신하는 복수의 제1 배선을 갖는 제1 배선층과, 제1 배선층에 적층되고, 이웃하는 복수의 제1 배선 사이에 공극을 형성하는 제1 절연막과, 제1 절연막에 적층됨과 함께, 표면이 평탄한 제2 절연막과, 제1 절연막 및 제2 절연막을 사이에 두고, 복수의 제1 배선의 적어도 일부와 정대(正對)하는 제1 도전막을 구비한다. An imaging device according to an embodiment of the present disclosure includes: a first wiring layer; a first insulating film; a second insulating film; and a first electrically conducive film. The first wiring layer includes a plurality of first wiring lines extending in one direction. The first insulating film is stacked on the first wiring layer. The first insulating film forms a gap between the plurality of adjacent first wiring lines. The second insulating film is stacked on the first insulating film. The second insulating film has a planar surface. The first electrically conducive film is right opposed to at least a portion of the plurality of first wiring lines with the first insulating film and the second insulating film interposed in between.
Bibliography:Application Number: KR20227015557