RING TRANSISTOR STRUCTURE
The present invention relates to a transistor device. The transistor device includes a plurality of first source/drain contact units disposed on a substrate. A plurality of gate structures are disposed on the substrate between the plurality of first source/drain contact units. The plurality of gate...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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15.07.2022
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Summary: | The present invention relates to a transistor device. The transistor device includes a plurality of first source/drain contact units disposed on a substrate. A plurality of gate structures are disposed on the substrate between the plurality of first source/drain contact units. The plurality of gate structures wrap the circumferences of the plurality of first source/drain contact units with a plurality of closed loops. A second source/drain contact unit is disposed on the substrate between the plurality of gate structures. The second source/drain contact unit continuously wraps the circumferences of the plurality of gate structures as a continuous structure.
본 개시는 트랜지스터 디바이스에 대한 것이다. 트랜지스터 디바이스는 기판 위에 배치된 복수의 제1 소스/드레인 접촉부를 포함한다. 복수의 게이트 구조물은 복수의 제1 소스/드레인 접촉부 사이의 기판 위에 배치된다. 복수의 게이트 구조물은 복수의 폐쇄 루프로 복수의 제1 소스/드레인 접촉부 둘레를 감싼다. 제2 소스/드레인 접촉부는 복수의 게이트 구조물 사이에서 기판 위에 배치된다. 제2 소스/드레인 접촉부는 연속적인 구조물로서 복수의 게이트 구조물 둘레를 연속적으로 감싼다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20210030205 |