SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD THEREOF

• Main Authors: CHOI BYOUNG DOO, CHOI JIN HO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.07.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; ATOMISING APPARATUS; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; NOZZLES; ORIGINALS THEREFOR; PERFORMING OPERATIONS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; SPRAYING APPARATUS; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; TRANSPORTING

The present invention discloses an apparatus for processing a substrate. A substrate processing apparatus includes: a processing container having a processing space for processing a substrate; a standby port located on one side of the processing container and waiting for a nozzle for discharging a processing liquid; a liquid supply unit moved between the processing container and the standby port and having the nozzle. The standby port includes a nozzle accommodating member including a nozzle cleaning part having an accommodation space for accommodating the nozzle and the cleaning liquid therein; and a discharge part provided on a side surface of the nozzle cleaning part and having a discharge port through which the cleaning liquid is discharged to the nozzle. When viewed from above, the discharge port is provided to overlap at least a portion of the nozzle. 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 개시한다. 기판 처리 장치는 기판을 처리하는 처리 공간을 가지는 처리 용기와; 상기 처리 용기의 일측에 위치되며, 처리액을 토출하는 노즐이 대기되는 대기 포트와; 상기 처리 용기와 상기 대기 포트 간에 이동되며, 상기 노즐을 가지는 액 공급 유닛을 포함하고, 상기 대기 포트는, 내부에 상기 노즐과 세정액을 수용 가능한 수용 공간을 가지는 노즐 세정부를 포함하는 노즐 수용 부재와; 상기 노즐 세정부의 측면에 제공되어 상기 세정액을 상기 노즐로 토출하는 토출구를 가지는 토출부를 포함하고, 상측에서 봤을 때 상기 토출구는 상기 노즐의 적어도 일부와 중첩이 되도록 제공된다.