SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

• Main Author: NEGISHI KOUSUKE
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 30.06.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

인산 수용액과 석출 억제제를 혼합하는 혼합 장치로부터 배기되어, 배기 덕트 내를 흐르는 기체 중의 가연 가스 농도를 저감시킨다. 본 개시의 일태양에 따른 기판 처리 장치는, 처리조와, 혼합 장치와, 가온부와, 송액로와, 배기 팬과, 배기 덕트와, 제어부를 구비한다. 처리조는, 기판을 처리액에 침지하여 처리한다. 혼합 장치는, 인산 수용액과 유기 용매를 함유하는 첨가제를 혼합하여, 처리액의 원료가 되는 혼합액을 생성한다. 가온부는, 혼합 장치에 마련되어, 혼합액을 가온한다. 송액로는, 혼합 장치로부터 처리조로 혼합액을 보낸다. 배기 팬은, 혼합 장치 내의 기체를 배기한다. 배기 덕트는, 혼합 장치 내로부터 배기되는 기체를 유도한다. 제어부는, 각 부를 제어한다. 또한, 제어부는, 혼합 장치로부터 배기 덕트로 배기되는 기체의 배기량을 배기 팬으로 조정한다. To reduce the combustible gas concentration of gas which is exhausted from a mixing device, which mixes a phosphoric acid aqueous solution with a precipitation inhibitor, and flows in an exhaust duct.SOLUTION: A substrate processing device includes a processing tank, a mixing device, a heating unit, a liquid transfer path, an exhaust fan, an exhaust duct and a control unit. The processing tank immerses a substrate into a processing liquid to process the substrate. The mixing device mixes a phosphoric acid aqueous solution and an additive which contains an organic solvent to generate a liquid mixture which becomes the raw materials of the processing liquid. The heating unit is provided on the mixing device to heat the liquid mixture. The liquid transfer path transfers the liquid mixture from the mixing device to the processing tank. The exhaust fan exhausts gas in the mixing device. The exhaust duct leads the gas exhausted from inside the mixing device. The control unit controls each part. Further, the control unit adjusts the displacement of the gas exhausted from the mixing device to the exhaust duct, using the exhaust fan.SELECTED DRAWING: Figure 5