유휴 차폐기, 증착 장치, 증착 시스템, 그리고 조립 및 동작 방법들

• Main Authors: RIES FLORIAN, BECKER RAMON
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 24.06.2022
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

진공 챔버를 갖는 증착 장치의 증착 소스의 재료를 차폐하기 위한 차폐기가 설명된다. 차폐기는 증착 장치에 장착되도록 구성된 프레임; 프레임에 결합된 차폐 어셈블리를 포함하며, 차폐 어셈블리는: 제1 측면 차폐 부분; 제2 측면 차폐 부분; 및 제1 측면 차폐 부분과 제2 측면 차폐 부분 사이의 중앙 차폐 부분을 포함하고, 차폐 어셈블리는 차폐 어셈블리의 폐쇄 포지션에서 증착 재료를 차폐하기 위해, 진공 챔버의 벽과 증착 소스 사이에 배열되도록 구성되며; 차폐기는: 차폐 어셈블리의 개방 포지션에서 증착 소스에 대한 접근을 허용하도록 차폐 어셈블리의 적어도 일부를 이동시키도록 구성된 도어 어레인지먼트를 더 포함한다. A shield for shielding material of a deposition source of a deposition apparatus having a vacuum chamber is described. The shield includes a frame configured to be mounted to the deposition apparatus; a shield assembly coupled to the frame, including: a first side shield portion; a second side shield portion; and a center shield portion between the first side shield portion and the second side shield portion, the shield assembly being configured to be arranged between a wall of the vacuum chamber and the deposition source to shield deposition material in a closed position of the shield assembly; the shield further including: a door arrangement configured to move at least a portion of the shield assembly to allow access to the deposition source in an open position of the shield assembly.