특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 광학 시스템 내 조립체

본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 광학 시스템 내 조립체에 관한 것이며, 조립체는 적어도 하나의 광학 요소, 광학 시스템의 동작 중에 상기 광학 요소를 냉각하기 위한 냉각 유체(103, 303)를 유동시킬 수 있는 적어도 하나의 냉각 채널, 및 냉각 유체(103, 303)의 상태의 부식에 의해 좌우되는 변화를 나타내는 적어도 하나의 측정 변수의 결정에 기초하여 기존의 또는 임박한 부식을 검출하기 위한 적어도 하나의 부식 검출기(110, 310)를 포함한다. An assembly in an optical system...

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Main Authors HARTJES JOACHIM, GRUNER TORALF, WOLF ALEXANDER
Format Patent
LanguageKorean
Published 23.06.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
MATERIALS THEREFOR
MEASURING
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
TESTING
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Summary:본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 광학 시스템 내 조립체에 관한 것이며, 조립체는 적어도 하나의 광학 요소, 광학 시스템의 동작 중에 상기 광학 요소를 냉각하기 위한 냉각 유체(103, 303)를 유동시킬 수 있는 적어도 하나의 냉각 채널, 및 냉각 유체(103, 303)의 상태의 부식에 의해 좌우되는 변화를 나타내는 적어도 하나의 측정 변수의 결정에 기초하여 기존의 또는 임박한 부식을 검출하기 위한 적어도 하나의 부식 검출기(110, 310)를 포함한다. An assembly in an optical system, such as a microlithographic projection exposure apparatus, includes an optical element, at least one cooling channel through which can flow a cooling fluid for cooling the optical element during the operation of the optical system, and at least one corrosion detector for detecting an existing or imminent corrosion on the basis of the determination of at least one measurement variable indicating a corrosion-dictated change in state of the cooling fluid.
Bibliography:Application Number: KR20227012614