RESIN RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME

본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물은, 유연성이 있는 단량체를 도입한 고분자를 사용함으로써 열경화 시에 패턴 흐름성을 조절 가능하고, 이를 이용하여 용도에 맞는 패턴 모양을 형성시킬 수 있다. 이렇게 형성된 패턴은 최소 패턴 크기 및 아웃가스의 양을 적정한 수준으로 만족시키기면서, 높은 발광 효율뿐만 아니라 신뢰성 높은 화소를 갖는 디스플레이 패널을 제공할 수 있다....

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Bibliographic Details
Main Authors CHO HYUNSANG, JAEHYUN LIM, JEON SEO JEONG, KO YUN JONG, CHANGMIN LEE, MUN SOUNG YUN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 21.06.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CHEMISTRY
CINEMATOGRAPHY
COMPOSITIONS BASED THEREON
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
MATERIALS THEREFOR
METALLURGY
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Summary:본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물은, 유연성이 있는 단량체를 도입한 고분자를 사용함으로써 열경화 시에 패턴 흐름성을 조절 가능하고, 이를 이용하여 용도에 맞는 패턴 모양을 형성시킬 수 있다. 이렇게 형성된 패턴은 최소 패턴 크기 및 아웃가스의 양을 적정한 수준으로 만족시키기면서, 높은 발광 효율뿐만 아니라 신뢰성 높은 화소를 갖는 디스플레이 패널을 제공할 수 있다.
Bibliography:Application Number: KR20200174867