TUNGSTEN OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET AND OXIDE THIN FILM
본 발명은 텅스텐 산화물 소결체, 상기 소결체를 포함하는 스퍼터링 타겟 및 이로부터 형성된 산화물 박막을 제공한다. 본 발명에서는 난(難)소결성 텅스텐 산화물에 특정 (준)금속 산화물을 소정 범위로 첨가함으로써, 무가압 소결을 실시하더라도 소결성 개선과 고밀도 특성을 동시에 확보할 수 있다....
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
16.06.2022
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Summary: | 본 발명은 텅스텐 산화물 소결체, 상기 소결체를 포함하는 스퍼터링 타겟 및 이로부터 형성된 산화물 박막을 제공한다. 본 발명에서는 난(難)소결성 텅스텐 산화물에 특정 (준)금속 산화물을 소정 범위로 첨가함으로써, 무가압 소결을 실시하더라도 소결성 개선과 고밀도 특성을 동시에 확보할 수 있다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20200171478 |