SUPPROTING UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARUTUS INCLUDING THE SAME

• Main Authors: YUN KANG SEOP, SONG SOO HAN, CHOI JUNG BONG, KIM CHUL GOO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 15.06.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

본 발명은 기판을 지지하고 회전되는 척과; 상기 척에 지지된 기판과 상기 척의 사이에 제공되며, 기판을 사열하는 광을 방출하는 램프 유닛을 포함하되, 상기 램프 유닛은 표면에 반사층이 제공되는 제1램프를 포함하고, 상기 반사층은 상기 제1램프의 표면 중 상기 제1램프에서 방출되는 광이 기판을 직접 향하는 영역에는 제공되지 않는 지지 유닛에 관한 것이다. The inventive concept provides a substrate support unit comprising a chuck supporting and rotating a substrate; and a lamp unit provided below the substrate to heat the substrate, wherein the lamp unit comprises a first lamp having a reflective layer on the surface thereof, to block and/or reflect a light which is emitted from the first lamp but not directed to the substrate to direct the light to the substrate.