Apparatus for processing substrate

• Main Authors: SON BYOUNG GUK, KANG SIN GEUN, WI KYU YONG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.06.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명의 일 관점에 의한 기판 처리 장치는, 내부에 기판 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 상기 기판 처리 공간에 설치되며, 복수의 기판들이 각각 안착되는 복수의 기판 안착홈들을 포함하는 기판 지지대와, 상기 기판 지지대에 대향되게 상기 공정 챔버에 설치되고, 원주 방향으로 배치된 복수의 가스 분사부들을 포함하는 샤워 헤드부와, 상기 기판 지지대에 결합되고 회전 가능하도록 상기 공정 챔버에 결합된 샤프트와, 상기 샤프트를 회전시키기 위해서 상기 샤프트에 결합된 구동부와, 상기 복수의 기판 안착홈들 내에 탈부착 가능하도록 각각 결합된 복수의 히터 모듈들을 포함한다.