APPARATUSE FOR TREATING SUBSTRATE

• Main Authors: SONG GYEONG WON, EUM KI SANG, RYU YANG YEOL, SEO KYUNG JIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 31.05.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a substrate processing device comprising: a processing container having an inner space; a support unit for supporting and rotating the substrate within the inner space; a liquid supply unit supplying a processing liquid to the substrate supported by the support unit; and an exhaust unit for exhausting the air flow in the inner space. The exhaust unit includes an air flow guide duct having an inlet provided to introduce air flow in a direction tangential to a rotational direction of the substrate supported on the support unit. 본 발명은 기판 처리 장치는 내부 공간을 가지는 처리 용기와; 상기 내부 공간 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과; 그리고 상기 내부 공간 내 기류를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 지지 유닛에 지지되는 기판의 회전 방향에 대해 접선 방향으로 기류를 유입하도록 제공된 입구를 가지는 기류 안내 덕트를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.