COMPOSITIONS AND METHODS FOR ETCHING SILICON NITRIDE-CONTAINING SUBSTRATES

• Main Authors: YANG MIN CHIEH, TU SHENG HUNG, KIM SEAN, COOPER EMANUEL, DAI WEN HAW, WU HSING CHEN, BILODEAU STEVEN, HONG SEONGJIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 27.05.2022
• Subjects: ADHESIVES; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMISTRY; DYES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; PAINTS; POLISHES; SEMICONDUCTOR DEVICES

질화 규소를 포함하는 마이크로일렉트로닉 디바이스 기판의 습식 에칭에 유용한 조성물 및 방법에 대해 기재되어 있다; 조성물은 인산, 헥사플루오로규산, 및 아미노 알콕시 실란, 및 임의로 하나 이상의 추가적인 선택적 성분을 포함한다; 질화 규소 및 산화 규소를 포함하는 기판을 기재된 조성물을 사용하여 습식 에칭하는 방법은 유용한 또는 개선된 질화 규소의 에칭 속도, 유용한 또는 개선된 질화 규소의 선택성, 이들의 조합, 및 임의로 에칭 후 기판 표면에 존재하는 입자의 감소를 달성할 수 있다, Described are compositio...