모아레 요소 및 회전 대칭 배열을 사용한 오버레이 타겟 이미징

• Main Authors: GHINOVKER MARK, LEVINSKI VLADIMIR, FELER YOEL, GUREVICH EVGENI, SHAPHIROV DIANA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 16.05.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTING; COUNTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

계측 타겟은 제1 패턴의 하나 이상의 인스턴스를 갖는 제1 회전 대칭 작업 구역 및 제2 패턴의 하나 이상의 인스턴스를 갖는 제2 회전 대칭 작업 구역을 포함할 수 있으며, 여기서 제1 패턴 또는 제2 패턴 중 적어도 하나는 는 제1 샘플 층 상에서 측정 방향을 따른 제1 피치를 갖는 제1 격자 구조 및 제2 샘플 층 상에서 측정 방향을 따른 제1 피치와 상이한 제2 피치를 갖는 제2 격자 구조로부터 형성된 모아레 패턴이다. 제1 및 제2 작업 구역의 회전 대칭의 중심은 제1 샘플 층과 제2 층 간의 오버레이 에러가 0일 때 설계상 중첩될 수 있다. 제1 및 제2 작업 구역의 회전 대칭의 중심 간의 차이는 제1 및 제2 샘플 층 간의 오버레이 에러를 나타낼 수 있다. A metrology target may include a first rotationally symmetric working zone with one or more instances of a first pattern and a second rotationally-symmetric working zone with one or more instances of a second pattern, where at least one of the first pattern or the second pattern is a Moiré pattern formed from a first grating structure with a first pitch along a measurement direction on a first sample layer and a second grating structure with a second pitch different than the first pitch along the measurement direction on a second sample layer. Centers of rotational symmetry of the first and second working zones may overlap by design when an overlay error between the first sample layer and the second layer is zero. A difference between the centers of rotational symmetry of the first and second working zones may indicate an overlay error between the first and second sample layers.