빔 위치 모니터링 및 빔 이미징을 위한 시스템들, 디바이스들 및 방법들

시스템들, 디바이스들 및 방법들의 실시예들은 빔 라인에서 빔 오정렬을 검출하기 위한 고속 빔 위치 모니터링에 관한 것이다. 예에서, 고속 빔 위치 모니터는 빔 라인의 컴포넌트의 내부로 연장되는 복수의 전극들을 포함한다. 고속 빔 위치 모니터는 빔 헤일로 전류에 기초하여 빔 라인의 컴포넌트를 통과하는 빔의 위치를 검출하도록 구성된다. 시스템들, 디바이스들 및 방법들의 실시예들은 또한 빔 라인을 따라 진행하는 빔들의 파라미터들을 비침습적으로 모니터링하는 것에 관한 것이다. 예들에서, 가스는 빔 라인을 따라 펌핑 챔버 내로 퍼핑된다. 하...

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Main Authors DUNAEVSKY ALEXANDER, VEKSELMAN VLADISLAV
Format Patent
LanguageKorean
Published 02.05.2022
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Summary:시스템들, 디바이스들 및 방법들의 실시예들은 빔 라인에서 빔 오정렬을 검출하기 위한 고속 빔 위치 모니터링에 관한 것이다. 예에서, 고속 빔 위치 모니터는 빔 라인의 컴포넌트의 내부로 연장되는 복수의 전극들을 포함한다. 고속 빔 위치 모니터는 빔 헤일로 전류에 기초하여 빔 라인의 컴포넌트를 통과하는 빔의 위치를 검출하도록 구성된다. 시스템들, 디바이스들 및 방법들의 실시예들은 또한 빔 라인을 따라 진행하는 빔들의 파라미터들을 비침습적으로 모니터링하는 것에 관한 것이다. 예들에서, 가스는 빔 라인을 따라 펌핑 챔버 내로 퍼핑된다. 하나 이상의 빔 파라미터는 빔 라인을 통해 진행하는 빔의 에너지 빔 미립자들의 충돌들로부터 발생하는 형광으로부터 측정된다. Embodiments of systems, devices, and methods relate to fast beam position monitoring for detecting beam misalignment in a beam line. In an example, a fast beam position monitor includes a plurality of electrodes extending into an interior of a component of a beam line. The fast beam position monitor is configured to detect a position of a beam passing through the component of the beam line based on beam halo current. Embodiments of systems, devices, and methods further relate to noninvasively monitoring parameters of beams advancing along a beam line. In examples, gas is puffed into a pumping chamber along a beam line. One or more beam parameters are measured from fluorescence resulting from collisions of energetic beam particulates of a beam advancing through the beam line.
Bibliography:Application Number: KR20227009717