비접촉 온도 측정을 사용하여 기판을 프로세싱하기 위한 방법 및 장치

기판을 프로세싱하기 위한 방법들 및 장치가 제공된다. 장치는, 예컨대, 프로세싱 볼륨을 정의하는 챔버 바디를 포함하고, 챔버 바디에 커플링된 뷰 포트를 갖는 프로세스 챔버; 프로세싱 볼륨 내에 배치되고, 기판을 지지하기 위한 지지 표면을 갖는 기판 지지부; 및 프로세싱 볼륨에서 프로세싱될 때 기판의 온도를 측정하기 위해, 뷰 포트에 인접하게 챔버 바디 외부에 배치된 적외선 온도 센서(IRTS)를 포함할 수 있으며, IRTS는 뷰 포트를 통해 기판을 스캐닝하기 위해 뷰 포트에 대해 이동가능하다. Methods and apparatus...

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Main Authors RAMACHANDRAN VINODH, TSAI CHENG HSIUNG, JUPUDI ANANTHKRISHNA, OW YUEH SHENG, GAUTAM RIBHU, RAO PREETHAM P, AGARWAL PRASHANT
Format Patent
LanguageKorean
Published 15.04.2022
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
COLORIMETRY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT
MEASURING
PHYSICS
RADIATION PYROMETRY
SEMICONDUCTOR DEVICES
TESTING
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Summary:기판을 프로세싱하기 위한 방법들 및 장치가 제공된다. 장치는, 예컨대, 프로세싱 볼륨을 정의하는 챔버 바디를 포함하고, 챔버 바디에 커플링된 뷰 포트를 갖는 프로세스 챔버; 프로세싱 볼륨 내에 배치되고, 기판을 지지하기 위한 지지 표면을 갖는 기판 지지부; 및 프로세싱 볼륨에서 프로세싱될 때 기판의 온도를 측정하기 위해, 뷰 포트에 인접하게 챔버 바디 외부에 배치된 적외선 온도 센서(IRTS)를 포함할 수 있으며, IRTS는 뷰 포트를 통해 기판을 스캐닝하기 위해 뷰 포트에 대해 이동가능하다. Methods and apparatus for processing a substrate are provided. The apparatus, for example, can include a process chamber comprising a chamber body defining a processing volume and having a view port coupled to the chamber body; a substrate support disposed within the processing volume and having a support surface to support a substrate; and an infrared temperature sensor (IRTS) disposed outside the chamber body adjacent the view port to measure a temperature of the substrate when being processed in the processing volume, the IRTS movable relative to the view port for scanning the substrate through the view port.
Bibliography:Application Number: KR20227008968