RETICLE POD HAVING ANTI-COLLISION GAP STRUCTURE

• Main Authors: HSUEH HSINMIN, WEN HSINGMIN, CHIU MINGCHIEN, LEE YIHSUAN, CHUANG CHIAHO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 06.04.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a reticle pod for receiving a reticle. The reticle pod includes: a base; and a plurality of support devices provided on the base to support the reticle. A first distance is defined between a peripheral area of the reticle bottom surface and an upward top surface of the base. A second distance is defined between a central region of the bottom surface of the base and the upward top surface of the base, and the central region is surrounded by the peripheral region. The second distance is greater than the first distance. 본 발명은 레티클을 수용하기 위한 레티클 포드를 개시한다. 레티클 포드는베이스 및 레티클을 지지하기 위해 상기 베이스 상에 제공된 복수의 지지 장치를 포함한다. 레티클 바닥면의 주변 영역과 베이스의 상향 상단면 사이에 제 1 거리가 정의된다. 베이스의 바닥면의 중앙 영역과 베이스의 상향 상단면 사이에 제 2 거리가 정의되며, 상기 중앙 영역은 상기 주변 영역에 의해 둘러싸여 있다. 제 2 거리가 제 1 거리보다 크다.