투과 스위치 플레이트를 갖는 열 처리 시스템

• Main Authors: BREMENSDORFER ROLF, YANG MICHAEL X
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 21.02.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF

워크피스를 처리하기 위한 장치, 시스템 및 방법이 제공된다. 일례에서, 시스템은 처리 챔버를 포함한다. 시스템은 처리 챔버 내에서 워크피스를 지지하도록 구성된 워크피스 지지부를 포함한다. 시스템은 워크피스를 향해 광을 방출하도록 구성된 열원을 포함한다. 시스템은 워크피스와 열원 사이에 배치되는 셔터를 포함한다. 셔터는 반투명 상태 및 불투명 상태로 구성 가능한 전기 변색 재료를 포함한다. 전기 변색 재료가 불투명 상태로 구성될 때, 셔터는 셔터를 통한 광의 투과를 감소시키고, 전기 변색 재료가 반투명 상태로 구성될 때, 광은 적어도 부분적으로 셔터를 통과한다. 시스템은 열 처리 프로세스 동안 셔터를 통한 광의 투과를 감소시키기 위하여 셔터를 제어하도록 구성된 컨트롤러를 포함한다. Apparatus, systems, and methods for processing workpieces are provided. In one example, the system includes a processing chamber. The system includes a workpiece support configured to support a workpiece within the processing chamber. The system includes a heat source configured to emit light toward the workpiece. The system includes a shutter disposed between the workpiece and the heat source. The shutter includes an electrochromic material configurable in a translucent state and an opaque state. When the electrochromic material is configured in the opaque state, the shutter reduces transmission of the light through the shutter, and when the electrochromic material is configured in the translucent state, the light at least partially passes through the shutter. The system includes a controller configured to control the shutter to reduce transmission of light through the shutter during a thermal treatment process.