APPARATUS METHOD AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT FOR DEFECT DETECTION IN WORK PIECES

• Main Authors: MARIVOET TOM, TRUYENS CARL, WOUTERS CHRISTOPHE
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 07.01.2022
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES; PHYSICS; TESTING

워크 피스들에서의 결함 검출을 위한 장치, 방법, 및 컴퓨터 프로그램 제품이 개시된다. 적어도 하나의 광원이 제공되고, 광원은 워크 피스가 투명해지는 파장 범위의 조명광을 생성한다. 카메라는 워크 피스의 적어도 하나의 면으로부터의 광을 렌즈에 의해 카메라의 검출기 상에 이미징한다. 워크 피스를 이동시키고 카메라로 반도체 디바이스의 적어도 하나의 면을 완전히 이미징하기 위해 스테이지가 사용된다. 컴퓨터 프로그램 제품은 워크 피스들에서의 결함 검출을 위해 컴퓨터로 판독가능한 비일시적 매체 상에 배치된다. 컴퓨터는 다양한 공정 단계들을 실행하고 장치의 다양한 수단을 제어하는데 사용된다. An apparatus, a method and a computer program product for defect detection in work pieces is disclosed. At least one light source is provided and the light source generates an illumination light of a wavelength range at which the work piece is transparent. A camera images the light from at least one face of the work piece on a detector of the camera by means of a lens. A stage is used for moving the work piece and for imaging the at least one face of the semiconductor device completely with the camera. The computer program product is disposed on a non-transitory, computer readable medium for defect detection in work pieces. A computer is used to execute the various process steps and to control the various means of the apparatus.