샘플링 스킴을 결정하기 위한 방법, 반도체 기판 측정 장치, 및 리소그래피 장치

• Main Authors: JENSEN ERIK, SMORENBERG PIETER GERARDUS JACOBUS, DERWIN PAUL, YU HYUN WOO, WERKMAN ROY, SARMA GAUTAM, SAPUTRA PUTRA, ELBATTAY KHALID
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 20.12.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 샘플링 스킴을 결정하기 위한 방법으로서, - 반도체 기판의 제 1 부분에 걸친 성능 파라미터의 제 1 공간적 분포에 관련된 제 1 지문 모델 및 상기 반도체 기판의 제 2 부분에 걸친 상기 성능 파라미터의 제 2 공간적 분포에 관련된 제 2 지문 모델을 획득하는 단계; 및 - 상기 제 1 부분에 걸친 제 1 지문 모델의 평가와 연관된 제 1 불확실성 메트릭(uncertainty metric)의 예상된 감소(expected reduction) 및 상기 제 2 부분에 걸친 제 2 지문 모델의 평가와 연관된 제 2 불확실성 메트릭의 예상된 감소에 기반하여, 측정 데이터를 생성하기 위해 상기 반도체 기판 상의 측정 위치에 대응하는 샘플링 포인트를 결정하는 단계를 포함하는, 샘플링 스킴 결정 방법을 제공한다. The invention provides a method of obtaining a fingerprint model for modelling a spatial distribution of a performance parameter over a portion of a substrate, the method comprising: defining an initial fingerprint model related to the spatial distribution of the performance parameter over the portion as a parameterized combination of basis functions; determining parameter values for the parameterized combination of basis functions based on pre-knowledge, and determining the fingerprint model for modelling the spatial distribution of the performance parameter over the portion of the substrate, based on a measurement set representing the performance parameter over the portion of a set of one or more semiconductor substrates and the initial fingerprint model, whereby a ratio of at least two parameter values of the basis functions as determined in the initial fingerprint model is kept constant or at least part of the shape of the initial fingerprint model is maintained in the fingerprint model.