고휘도 레이저로 생성된 플라즈마 광원

레이저 생성 플라즈마 광원이 제공된다. 레이저 생성 플라즈마 광원은 타겟 상에 포커싱된 펄스 레이저 빔(8)을 갖는 상호작용 구역(3) 내에 상기 타겟(3)을 제공하는 회전 타겟 조립체(2)를 구비하는 진공 챔버(1)를 포함한다. 상기 타겟은 상기 회전 타겟 조립체에 구현된 환형 그루브(6)의 표면 상의 환형 용융 금속층이다. 단파장 방사선의 출력 빔(9)이 상기 상호작용 구역으로부터 방출된다. 이물질 완화 수단이 제공되며 이물질 완화 수단은 상기 상호작용 구역(4)을 둘러싸도록 단단하게 장착된 이물질 실드(24)를 포함하며, 상기...

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Main Authors ELLWI SAMIR, KOSHELEV KONSTANTIN NIKOLAEVICH, VINOKHODOV ALEKSANDR YURIEVICH, IVANOV VLADIMIR VITALIEVICH, MEDVEDEV VYACHESLAV VALERIEVICH, KHRISTOFOROV OLEG BORISOVICH, GLUSHKOV DENIS ALEXANDROVICH, KRIVTSUN VLADIMIR MIKHAILOVICH, KRIVOKORYTOV MIKHAIL SERGEYEVICH, SIDELNIKOV YURY VIKTOROVICH, YAKUSHEV OLEG FELIKSOVICH, LASH ALEKSANDR ANDREEVICH
Format Patent
LanguageKorean
Published 15.12.2021
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
X-RAY TECHNIQUE
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Summary:레이저 생성 플라즈마 광원이 제공된다. 레이저 생성 플라즈마 광원은 타겟 상에 포커싱된 펄스 레이저 빔(8)을 갖는 상호작용 구역(3) 내에 상기 타겟(3)을 제공하는 회전 타겟 조립체(2)를 구비하는 진공 챔버(1)를 포함한다. 상기 타겟은 상기 회전 타겟 조립체에 구현된 환형 그루브(6)의 표면 상의 환형 용융 금속층이다. 단파장 방사선의 출력 빔(9)이 상기 상호작용 구역으로부터 방출된다. 이물질 완화 수단이 제공되며 이물질 완화 수단은 상기 상호작용 구역(4)을 둘러싸도록 단단하게 장착된 이물질 실드(24)를 포함하며, 상기 이물질 실드(24)는 정지되어 있다. 상기 이물질 실드는 상기 레이저 빔(8)을 위한 입구를 형성하는 제1개구부(25) 및 상기 출력 빔(9)을 위한 출구를 형성하는 제2개구부(26)를 포함한다. Laser-produced plasma light source contains a vacuum chamber with a rotating target assembly providing a target in an interaction zone with a laser beam focused on the said target, which is a molten metal layer. A debris shield is rigidly mounted to surround the interaction zone, said shield comprising only two opening forming an entrance for the laser beam and an exit for a short-wavelength radiation beam. The means for debris mitigation can additionally include: the rotation of target with high linear velocity exciding 80 m/s; the orientation of the short-wavelength radiation beam and/or of the laser beam at an angle of less than 45° to the target surface, a nozzle supplying a high-speed gas flow to the interaction zone, etc. The technical result is the creation of the high-brightness low-debris sources of soft X-ray, EUV and VUV light at wavelengths of 0.4 to 200 nm.
Bibliography:Application Number: KR20217037458