전자 장치에 사용하기 위한 중합체
화학식 I을 갖는 폴리아믹산이 개시된다: [화학식 I] JPEGpct00090.jpg1319. 화학식 I에서, Ra는 하나 이상의 상이한 테트라카르복실산 성분 잔기를 나타내고; Rb는 하나 이상의 상이한 방향족 디아민 잔기 또는 방향족 디이소시아네이트 잔기를 나타내며, 5 내지 100 몰%의 Rb는 화학식 II를 갖는다: [화학식 II] JPEGpct00091.jpg1124. 화학식 II에서, R1 내지 R6은 동일하거나 상이하며 할로알킬 또는 할로알콕시이고; R7은 각각의 경우에 동일하거나 상이하며 중수소, 할로겐, 시아노, 히드...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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01.12.2021
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Summary: | 화학식 I을 갖는 폴리아믹산이 개시된다: [화학식 I] JPEGpct00090.jpg1319. 화학식 I에서, Ra는 하나 이상의 상이한 테트라카르복실산 성분 잔기를 나타내고; Rb는 하나 이상의 상이한 방향족 디아민 잔기 또는 방향족 디이소시아네이트 잔기를 나타내며, 5 내지 100 몰%의 Rb는 화학식 II를 갖는다: [화학식 II] JPEGpct00091.jpg1124. 화학식 II에서, R1 내지 R6은 동일하거나 상이하며 할로알킬 또는 할로알콕시이고; R7은 각각의 경우에 동일하거나 상이하며 중수소, 할로겐, 시아노, 히드록실, 알킬, 중수소화 알킬, 헤테로알킬, 알콕시, 헤테로알콕시, 할로알킬, 할로알콕시, 실릴, 실록시, 탄화수소 아릴, 치환된 탄화수소 아릴, 헤테로아릴, 치환된 헤테로아릴, 비닐, 또는 알릴이며; n은 0 내지 10의 정수이고; x1 및 x4는 동일하거나 상이하며 0 내지 3의 정수이고; x2 및 x3은 동일하거나 상이하며 0 내지 2의 정수이고; *는 부착점을 나타낸다.
Disclosed is a polyamic acid having Formula IIn Formula I: Ra represents one or more different tetracarboxylic acid component residues; Rb represents one or more different aromatic diamine residues or aromatic diisocyanate residues; and 5-100 mol % of Rb has Formula IIIn Formula II: R1 through R6 are the same or different and are haloalkyl or haloalkoxy; R7 is the same or different at each occurrence and is deuterium, halogen, cyano, hydroxyl, alkyl, deuterated alkyl, heteroalkyl, alkoxy, heteroalkoxy, haloalkyl, haloalkoxy, silyl, siloxy, hydrocarbon aryl, substituted hydrocarbon aryl, heteroaryl, substituted heteroaryl, vinyl, or allyl; n is an integer from 0-10; x1 and x4 are the same or different and are an integer from 0-3; x2 and x3 are the same or different and are an integer from 0-2; and * indicates a point of attachment. |
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Bibliography: | Application Number: KR20217037791 |