에칭 반응기용 터보 분자 펌프 및 캐소드 어셈블리
프로세싱 챔버 및 반도체 기판을 에칭하는 방법이 제공된다. 프로세싱 챔버는, 프로세싱 챔버를 배기하도록 사용된 펌프의 코어 내의 통로의 중심선 및 가스가 프로세싱 챔버로 도입되는 가스 포트의 중심선과 정렬된 반도체 기판을 유지하기 위한 척의 중심선 및 스테이지의 스템의 중심선에 대칭이다. 스템은 통로를 통해 연장하고 나선 홈이 스템과 코어 사이의 갭 내부의 중간 및 점성 플로우 레짐으로 펌프의 배기부로부터 가스의 역 스트리밍에 대응하는 펌핑 작용을 제공하도록 스템 또는 코어의 내측 표면 중 하나만의 통로 내에 형성된다. A proc...
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Format | Patent |
Language | Korean |
Published |
28.10.2021
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