적층체의 열처리를 위한 장치, 장비 및 방법

• Main Authors: PALM JOERG, FUERFANGER MARTIN, VERDENHALVEN MIKE
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 28.10.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 적층체(1)의 열처리를 위한 장치(102)를 제공하며, 상기 장치는 열 복사(6, 8)를 생성하기 위한 적어도 하나의 복사 히터의 에너지원(16, 7, 11); 적층체(1); 및, 에너지원(16, 7, 11)과 적층체(1) 사이에 배치된 중간 요소(15, 5, 12)를 포함하여 구성된다. 제1 대안에 따르면, 중간 요소(15, 5, 12)는 가요성 필름(18)의 형태로 구현되는 표면 요소(17)를 포함한다. 제2 대안에 따르면, 중간 요소(15, 5, 12)는 가요성 필름(18) 또는 강성 플레이트(19)의 형태로 구현되는 표면 요소(17)를 포함하며, 상기 표면 요소(17)는 에너지원(16, 7, 11)을 향한 표면(27)을 갖고, 상기 표면은 열 복사(6,8)에 의해 조사될 수 있으며, 상기 에너지원(16, 7, 11)을 향한 표면(27)은 에너지원(16, 7, 11)을 향한 방향으로 지지 장치(22, 23, 25, 26)에 의해 기계적으로 지지된다. An arrangement for heat treating a multilayer body, which arrangement comprises an energy source with at least one radiant heater for generating heating radiation, a multilayer body, and an intermediate element arranged between the energy source and the multilayer body. According to a first alternative, the intermediate element includes a surface element implemented in the form of a flexible film. According to a second alternative, the intermediate element includes a surface element implemented in the form of a flexible film or a rigid plate, wherein the surface element has a surface facing the energy source, which can be irradiated by the heating radiation and is mechanically supported by a supporting device in the direction toward the energy source.