다중 스페이서 패터닝 방식들

• Main Authors: KEDLAYA DIWAKAR N, LEE GENE, LI CHAO, GUPTA MEENAKSHI, YANG TZU SHUN, OSHIO HIDETAKA, GUGGILLA SRINIVAS, JANAKIRAMAN KARTHIK, LIN YUNG CHEN, CHENG RUI, HUANG ZUBIN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.10.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 개시내용은 우수한 프로파일 제어 및 피처 전사 무결성을 갖는 다중 패터닝 프로세스를 활용하여 나노구조들을 형성하는 것을 제공한다. 일 실시예에서, 기판 상에 피처들을 형성하기 위한 방법은, 기판 상에 맨드릴 층을 형성하는 단계, 맨드릴 층 상에 스페이서 층을 등각적으로 형성하는 단계 -스페이서 층은 도핑된 실리콘 재료임-, 및 스페이서 층을 패터닝하는 단계를 포함한다. 다른 실시예에서, 기판 상에 피처들을 형성하기 위한 방법은, 기판 상의 맨드릴 층 상에 스페이서 층을 등각적으로 형성하는 단계 -스페이서 층은 도핑된 실리콘 재료...