세륨 화합물 제거용 세정액, 세정 방법 및 반도체 웨이퍼의 제조 방법

본 발명은, 세륨 화합물 제거용 세정액, 세정 방법 및 반도체 웨이퍼의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 목적은, 세륨 화합물의 제거성이 우수한 세정액을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 세륨 화합물 제거용 세정액은, 배위수가 7 이상인 아미노폴리카르복실산 화합물을 포함한다. The present invention relates to a cleaning liquid for removing cerium compounds, a cleaning method, and a method for producing a semiconductor...

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Main Author KUSANO TOMOHIRO
Format Patent
LanguageKorean
Published 27.10.2021
Subjects
ANIMAL AND VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES AND WAXES
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CANDLES
CHEMISTRY
DETERGENT COMPOSITIONS
DETERGENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
FATTY ACIDS THEREFROM
METALLURGY
RECOVERY OF GLYCEROL
RESIN SOAPS
SEMICONDUCTOR DEVICES
SOAP OR SOAP-MAKING
USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS
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Summary:본 발명은, 세륨 화합물 제거용 세정액, 세정 방법 및 반도체 웨이퍼의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 목적은, 세륨 화합물의 제거성이 우수한 세정액을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 세륨 화합물 제거용 세정액은, 배위수가 7 이상인 아미노폴리카르복실산 화합물을 포함한다. The present invention relates to a cleaning liquid for removing cerium compounds, a cleaning method, and a method for producing a semiconductor wafer. The purpose of the present invention is to provide a cleaning liquid that exhibits an excellent cleaning performance for cerium compounds. A cleaning liquid for removing cerium compounds according to the present invention comprises an aminopolycarboxylic acid compound that has a coordination number of at least 7.
Bibliography:Application Number: KR20217025542