세정제 조성물 및 세정 방법

본 발명은 기체(基體) 상에 잔류하는 폴리실록산계 접착제를 제거하기 위해 이용되는 세정제 조성물로서, 불화 테트라(탄화수소)암모늄과, 유기 용매를 포함하고, 상기 유기 용매가, 식 (1)로 표시되는 락탐 화합물과, 환상 에테르 화합물, 환상 알킬 쇄상 알킬 에테르 화합물, 환상 알킬 분기상 알킬 에테르 화합물 및 디(환상 알킬) 에테르 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 환상 구조 함유 에테르 화합물을 포함한다: [화학식 1] JPEGpct00020.jpg3559 (식 중, R101은, 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내며,...

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Main Authors SHINJO TETSUYA, OGINO HIROSHI, OKUNO TAKAHISA, KARASAWA RYO
Format Patent
LanguageKorean
Published 20.10.2021
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Summary:본 발명은 기체(基體) 상에 잔류하는 폴리실록산계 접착제를 제거하기 위해 이용되는 세정제 조성물로서, 불화 테트라(탄화수소)암모늄과, 유기 용매를 포함하고, 상기 유기 용매가, 식 (1)로 표시되는 락탐 화합물과, 환상 에테르 화합물, 환상 알킬 쇄상 알킬 에테르 화합물, 환상 알킬 분기상 알킬 에테르 화합물 및 디(환상 알킬) 에테르 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 환상 구조 함유 에테르 화합물을 포함한다: [화학식 1] JPEGpct00020.jpg3559 (식 중, R101은, 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내며, R102는, 탄소수 1∼6의 알킬렌기를 나타낸다.). A cleaning agent composition for use in removal of a polysiloxane adhesive remaining on a substrate containing a tetrahydrocarbylammonium fluoride and an organic solvent, wherein the organic solvent contains a lactam compound represented by formula (1) and a ring-structure-having ether compound including at least one species selected from among a cyclic ether compound, a cycloalkyl (chain alkyl) ether compound, a cycloalkyl (branched alkyl) ether compound, and a di(cycloalkyl) ether compound.(in formula (1), R101 represents a C1 to C6 alkyl group; and R102 represents a C1 to C6 alkylene group.)
Bibliography:Application Number: KR20217029057