플라즈마 프로세싱 챔버에서의 고 바이어스 라디오 주파수(RF) 전력 인가를 위한 정전 척

• Main Authors: TIAN PENG, CHO JAEYONG, RAUF SHAHID
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 19.10.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOTDIRECTED TO A PARTICULAR RESULT; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER; DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g.ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; GENERATION; MACHINE TOOLS; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OFPARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PERFORMING OPERATIONS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

정전 척의 실시예들이 본원에서 제공된다. 일부 실시예들에서, 기판 프로세싱 챔버에서 사용하기 위한 정전 척은, 제1 면 및 제1 면에 대향하는 제2 면을 갖는 플레이트, 플레이트에서 제1 면에 근접하게 매립된 제1 전극, 플레이트에서 제2 면에 근접하게 매립된 제2 전극, 제1 전극을 제2 전극에 커플링시키는 복수의 전도성 엘리먼트들, 플레이트 내에 그리고 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 제1 가스 채널, 플레이트의 제2 면으로부터 제1 가스 채널로 연장되는 가스 유입구, 및 플레이트의 제1 면으로부터 제1 가스 채널로 연장되는 복수의 가스 배출구들을 포함한다. Embodiments of an electrostatic chuck are provided herein. In some embodiments, an electrostatic chuck for use in a substrate processing chamber includes a plate having a first side and a second side opposite the first side, a first electrode embedded in the plate proximate the first side, a second electrode embedded in the plate proximate the second side, a plurality of conductive elements coupling the first electrode to the second electrode, a first gas channel disposed within the plate and between the first electrode and the second electrode, a gas inlet extending from the second side of the plate to the first gas channel; and a plurality of gas outlets extending from the first side of the plate to the first gas channel.