화학 반응기용 필터

화학 반응기용 필터 기판 상에 구현된 화학 반응기는 유체 및/또는 가스를 수용하기 위한 입구를 포함하며, 이에 의해 입구는 제 1 깊이(dhigh)를 갖고 모세관을 수용하도록 조정되며, 재료가 막힘을 유발하는 것을 감소 또는 방지하기 위한 필터 요소를 포함한다. 공급된 유체 및/또는 더 멀리 위치한 화학 반응기의 일부에 공급된 가스에서, 그리고 유체 및/또는 가스를 수송 및/또는 처리하기 위해 더 멀리 위치한 부분을 포함하고, 이에 의해 더 멀리 위치한 부분은 입구의 깊이(dhigh) 보다 작은 깊이(dlow)를 가진다. 필터 요소...

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Main Authors CLAEREBOUT BO, JACOBS PAUL, OP DE BEECK JEFF
Format Patent
LanguageKorean
Published 06.10.2021
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Summary:화학 반응기용 필터 기판 상에 구현된 화학 반응기는 유체 및/또는 가스를 수용하기 위한 입구를 포함하며, 이에 의해 입구는 제 1 깊이(dhigh)를 갖고 모세관을 수용하도록 조정되며, 재료가 막힘을 유발하는 것을 감소 또는 방지하기 위한 필터 요소를 포함한다. 공급된 유체 및/또는 더 멀리 위치한 화학 반응기의 일부에 공급된 가스에서, 그리고 유체 및/또는 가스를 수송 및/또는 처리하기 위해 더 멀리 위치한 부분을 포함하고, 이에 의해 더 멀리 위치한 부분은 입구의 깊이(dhigh) 보다 작은 깊이(dlow)를 가진다. 필터 요소는 제 1 덕트 부분과 제 2 덕트 부분을 포함하며, 이에 의해 제 1 덕트 부분은 제 2 덕트 부분보다 입구에 더 가깝게 위치되고, 제 1 덕트 부분은 제 2 덕트 부분보다 깊고, 제 1 덕트 부분은 폭이 다양하고 기둥 구조가 없으며 제 2 덕트 부분은 필터 기둥으로 채워진다. A chemical reactor is implemented on a substrate and has an inlet for receiving a fluid and/or a gas; a filter element for reducing or preventing that materials cause a blockage in the fluid supplied and/or the gas supplied in a part of the chemical reactor located further away; and a part located further away for transporting and/or processing the fluid and/or the gas. The part located further away has a depth dlow smaller than the depth dhigh of the inlet. The filter element has a first duct part and a second duct part; the first duct part is positioned closer up against the inlet than the second duct part, the first duct part is deeper than the second duct part, the first duct part has a diverging width and is free from pillar structures, and the second duct part is filled with filter pillars.
Bibliography:Application Number: KR20217024132