비휘발성 메모리 장치 및 그 제조 방법

비휘발성 메모리 장치는 제1 기판, 제2 기판, 메모리 어레이, 회로 구조물, 본딩 구조물 및 차폐 구조물을 포함한다. 제2 기판의 제2 전면은 제1 기판의 제1 전면과 마주본다. 메모리 어레이는 제1 기판 상에 배치되고, 제1 기판의 제1 전면에 배치된다. 회로 구조물은 제2 기판 상에 배치되고, 제2 기판의 제2 전면에 배치된다. 본딩 구조물은 메모리 어레이와 회로 구조물 사이에 배치된다. 회로 구조물은 본딩 구조물을 통해 메모리 어레이에 전기 접속된다. 차폐 구조물은 메모리 어레이와 회로 구조물 사이에 배치되고 본딩 구조물을...

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Main Author OH JINYONG
Format Patent
LanguageKorean
Published 01.10.2021
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Summary:비휘발성 메모리 장치는 제1 기판, 제2 기판, 메모리 어레이, 회로 구조물, 본딩 구조물 및 차폐 구조물을 포함한다. 제2 기판의 제2 전면은 제1 기판의 제1 전면과 마주본다. 메모리 어레이는 제1 기판 상에 배치되고, 제1 기판의 제1 전면에 배치된다. 회로 구조물은 제2 기판 상에 배치되고, 제2 기판의 제2 전면에 배치된다. 본딩 구조물은 메모리 어레이와 회로 구조물 사이에 배치된다. 회로 구조물은 본딩 구조물을 통해 메모리 어레이에 전기 접속된다. 차폐 구조물은 메모리 어레이와 회로 구조물 사이에 배치되고 본딩 구조물을 둘러싼다. 차폐 구조물은 전압원에 전기 접속된다. A non-volatile memory device includes a first substrate, a second substrate, a memory array, a circuit structure, a bonding structure, and a shielding structure. A second front side of the second substrate faces a first front side of the first substrate. The memory array is disposed on the first substrate and disposed at the first front side of the first substrate. The circuit structure is disposed on the second substrate and disposed at the second front side of the second substrate. The bonding structure is disposed between the memory array and the circuit structure. The circuit structure is electrically connected with the memory array through the bonding structure. The shielding structure is disposed between the memory array and the circuit structure and surrounds the bonding structure. The shielding structure is electrically connected to a voltage source.
Bibliography:Application Number: KR20217027023