OBJECT HOLDING DEVICE EXPOSURE DEVICE FLAT-PANEL DISPLAY MANUFACTURING METHOD DEVICE MANUFACTURING METHOD AND OBJECT HOLDING METHOD

기판 (P) 을 유지하는 기판 홀더 (70) 는, 기판 (P) 을 유지하는 유지면과, 유지면의 이면측에 형성된 흡착 부분과 비흡착 부분을 각각 구비하는 복수의 척부 (74) 와, 척부 (74) 의 흡착 부분이 흡착되는 베이스부 (72) 와, 정반부 (50) 와, 정반부 (50) 와 베이스부 (72) 사이에 형성되고, 척부 (74) 의 비흡착 부분을 통하여 기체를 통과시키는 관로를 갖는 관로부 (62) 를 갖고, 척부 (74) 는 비흡착 부분을 통과하는 기체를 사용하여 기판 (P) 을 유지함과 함께, 흡착 부분의 베이스부 (72) 에...

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Main Author AOKI YASUO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 29.09.2021
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:기판 (P) 을 유지하는 기판 홀더 (70) 는, 기판 (P) 을 유지하는 유지면과, 유지면의 이면측에 형성된 흡착 부분과 비흡착 부분을 각각 구비하는 복수의 척부 (74) 와, 척부 (74) 의 흡착 부분이 흡착되는 베이스부 (72) 와, 정반부 (50) 와, 정반부 (50) 와 베이스부 (72) 사이에 형성되고, 척부 (74) 의 비흡착 부분을 통하여 기체를 통과시키는 관로를 갖는 관로부 (62) 를 갖고, 척부 (74) 는 비흡착 부분을 통과하는 기체를 사용하여 기판 (P) 을 유지함과 함께, 흡착 부분의 베이스부 (72) 에 대한 흡착을 해제하면, 상기 베이스 부재로부터 제 1 부재를 떼어내는 물체 유지 장치. A substrate holder (70) holding a substrate (P) comprises: multiple chucks (74) each provided with a holding surface for holding a substrate (P) and a suction part and non-suction part disposed on the back side of the holding surface; base units (72) to which the suction parts of the chucks (74) are suctioned; a surface plate (50); and a pipeline unit (62) which is provided between the surface plate (50) and the base units (72) and which comprises pipelines for circulating a gas through the non-suction parts of the chucks (74). The chucks (74) use the gas passing through the non-suction parts to hold the substrate (P), and a first member is removed from a base member when suctioning of the base unit (72) by the suction parts is released.
Bibliography:Application Number: KR20217030227