METROLOGY METHOD TARGET AND SUBSTRATE

• Main Authors: VAN BUEL HENRICUS WILHELMUS MARIA, DEN BOEF ARIE JEFFREY, VAN HAREN RICHARD JOHANNES FRANCISCUS, BHATTACHARYYA KAUSTUVE, FUCHS ANDREAS, FOUQUET CHRISTOPHE DAVID, BELTMAN JOHANNES MARCUS MARIA, ADAM OMER ABUBAKER OMER, SMILDE HENDRIK JAN HIDDE, KUBIS MICHAEL, JAK MARTIN JACOBUS JOHAN, LIU XING LAN, VAN DER SCHAAR MAURITS
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.09.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

적어도 제 1 서브-타겟 및 적어도 제 2 서브-타겟을 갖는 회절 측정 타겟이 제공되고, (1) 제 1 및 제 2 서브-타겟들은 각각 주기적 구조체들의 쌍을 포함하며, 제 1 서브-타겟은 제 2 서브-타겟과 상이한 디자인을 갖고, 상이한 디자인은 제 2 서브-타겟 주기적 구조체들과 상이한 피치, 피처 폭, 공간 폭, 및/또는 세그멘테이션을 갖는 제 1 서브-타겟 주기적 구조체들을 포함하거나, (2) 제 1 및 제 2 서브-타겟들은 각각 제 1 층에 제 1 및 제 2 주기적 구조체들을 포함하고, 제 3 주기적 구조체가 제 1 층 아래의 제 2 층에서 제 1 주기적 구조체 밑에 적어도 부분적으로 위치되며, 제 2 층에서 제 2 주기적 구조체 밑에 주기적 구조체가 존재하지 않고, 제 4 주기적 구조체가 제 2 층 아래의 제 3 층에서 제 2 주기적 구조체 밑에 적어도 부분적으로 위치된다. 서브-타겟들 주변에 어시스트 피처를 위치시키는 것을 수반하는 이러한 측정 타겟을 계획하는 방법이 제공되고, 어시스트 피처는 서브-타겟들의 주변에서의 측정된 세기 피크들을 감소시키도록 구성된다. To provide a method and apparatus for metrology using a target, in which throughput, flexibility and/or accuracy can be improved.SOLUTION: A diffraction measurement target has at least a first sub-target and at least a second sub-target. The first and second sub-targets each include a pair of periodic structures, and the first sub-target has a different design than the second sub-target. The different design includes the first sub-target periodic structures having a different pitch, feature width, space width, and/or segmentation than the second sub-target periodic structure.SELECTED DRAWING: Figure 11