원하지 않는 회절 차수의 존재에서의 스캐터로메트리 모델링

• Main Authors: ATKINS PHILLIP R, KRISHNAN SHANKAR, LEE LIE QUAN RICH, WU DAVID WEI CHUAN, CHIU EMILY
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.08.2021
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; PHYSICS; TESTING

계측 시스템은 파장 범위에 대한 스캐터로메트리 도구로부터의 분광 스캐터로메트리 데이터의 회귀에 기초하여, 선택된 패턴으로 분포된 피처를 포함하는 타겟의 하나 이상의 선택된 속성을 측정하기 위한 모델을 수신할 수 있다. 계측 시스템은 또한, 타겟을 측정할 때 산란 측정 도구에 의해 캡처된 광이 원하지 않는 회절 차수를 포함하는 것으로 예측되는 파장과 연관된 분광 스캐터로메트리 데이터의 부분을 덜 강조하기 위해 모델에 대한 가중 함수를 생성할 수 있다. 계측 시스템은 또한, 선택된 패턴으로 분포된 제작된 피처를 포함하는 하나 이상의 측정 타겟의 스캐터로메트리 데이터를 생성하도록 분광 스캐터로메트리 도구에 지시할 수 있다. 계측 시스템은 또한, 가중 함수에 의해 가중된 모델에 대한 하나 이상의 측정 타겟의 스캐터로메트리 데이터의 회귀에 기초하여 하나 이상의 측정 타겟에 대한 선택된 속성을 측정할 수 있다. A metrology system may receive a model for measuring one or more selected attributes of a target including features distributed in a selected pattern based on regression of spectroscopic scatterometry data from a scatterometry tool for a range of wavelengths. The metrology system may further generate a weighting function for the model to de-emphasize portions of the spectroscopic scatterometry data associated with wavelengths at which light captured by the scatterometry tool when measuring the target is predicted to include undesired diffraction orders. The metrology system may further direct the spectroscopic scatterometry tool to generate scatterometry data of one or more measurement targets including fabricated features distributed in the selected pattern. The metrology system may further measure the selected attributes for the one or more measurement targets based on regression of the scatterometry data of the one or more measurement targets to the model weighted by the weighting function.