마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비

• Main Authors: YANG XIAOQING, ZHANG YIZHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.08.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비를 제공하고, 여기서 모니터링 방법은, 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리(H1, H2)를 획득하는 단계(S11); 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크(200) 상의 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향 (Z)에서의 거리(H1'), 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크(200) 상의 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향 (Z)에서의 거리(H2'), 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크(200) 상의 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 각각 획득하는 단계(S12); 획득한 데이터에 따라 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도 및 제3 방향(Y)에서의 편향 각도를 계산하는 단계(S13); 를 포함한다. A mask attitude monitoring method and apparatus and a mask particle size measurement device. The monitoring method comprises: obtaining a distance (H1, H2) from at least one calibration point to a standard surface (A) along a first direction (Z) (S11); respectively obtaining a distance (H1'), along the first direction (Z), from the at least one calibration point to a first detection point (a1) on a mask (200) to be measured, a distance (H2') from the at least one calibration point to a second detection point (a2) on said mask (200) along the first direction (Z), and a distance from the at least one calibration point to a third detection point (a3) on said mask (200) along the first direction (Z) (S12); and calculating a deflection angle of said mask (200) around a second direction (X) with respect to the standard plane (A) and a deflection angle around a third direction (Y) according to obtained data (S13).