DRYING DEVICE SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND DRYING METHOD OF SUBSTRATE HOLDER

• Main Author: TAMURA SHO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.08.2021
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; BLASTING; CHEMISTRY; DRYING; DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; HEATING; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS; WEAPONS

Provided is a drying device capable of removing particles floating in a drying tank when a substrate holder is dried. A drying device (300) in accordance with the present disclosure comprises: a drying tank (320) having a wall (322), a liquid supply port (334) for supplying a liquid to the inner surface of the wall (322), and a discharge port (336) for discharging the liquid inside; a plurality of nozzles (340) for ejecting gas to a substrate holder (200); a liquid supply means (312) for supplying the liquid into the drying tank (320) from the liquid supply port (334); a gas supply means (310) for supplying the gas to the nozzles (340); and a control device (380). The control device (380) controls the liquid supply means (312) and the gas supply means (310) such that the nozzles (340) eject the gas to the substrate holder (200) or to a substrate (W) while the liquid supply port (334) supplies the liquid to the inner surface of the wall (322). 기판 홀더의 건조 시에 건조조의 내부를 부유하는 파티클을 제거할 수 있는 건조 장치를 제공한다. 본 개시에 관한 건조 장치(300)는, 벽(322), 벽(322)의 내면에 액체를 공급하기 위한 액체 공급구(334) 및 내부의 액체를 배출하기 위한 배출구(336)를 갖는 건조조(320)와, 기판 홀더(200)에 기체를 분사하기 위한 복수의 노즐(340)과, 액체 공급구(334)로부터 건조조(320)의 내부에 액체를 공급하기 위한 액체 공급 수단(312)과, 복수의 노즐(340)에 기체를 공급하기 위한 기체 공급 수단(310)과, 제어 장치(380)를 구비하고, 제어 장치(380)는, 액체 공급구(334)가 벽(322)의 내면에 액체를 공급하고 있는 동안에, 복수의 노즐(340)이 기판 홀더(200) 또는 기판(W)에 기체를 분사하도록 액체 공급 수단(312) 및 기체 공급 수단(310)을 제어한다.