저 유전 상수 경화성 조성물

저 유전 상수 경화성 조성물은 12개 이상의 탄소 원자를 갖는 제1 알킬 (메트)아크릴레이트 단량체, 가교결합 단량체, 폴리아이소부틸렌-폴리실록산 블록 공중합체의 공중합체 첨가제, 및 적어도 하나의 개시제를 포함한다. 경화성 조성물은 무용매이며 잉크젯 인쇄가능하다. 경화 시에, 경화성 조성물은 1 메가헤르츠에서의 유전 상수가 3.0 이하인 비결정질의 광학적으로 투명한(optically clear) 층을 형성한다. Low dielectric constant curable compositions include a first alkyl...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors HARTMANN THOMPSON CLAIRE, SCHWARTZ EVAN L, BAETZOLD JOHN P
Format Patent
LanguageKorean
Published 06.08.2021
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:저 유전 상수 경화성 조성물은 12개 이상의 탄소 원자를 갖는 제1 알킬 (메트)아크릴레이트 단량체, 가교결합 단량체, 폴리아이소부틸렌-폴리실록산 블록 공중합체의 공중합체 첨가제, 및 적어도 하나의 개시제를 포함한다. 경화성 조성물은 무용매이며 잉크젯 인쇄가능하다. 경화 시에, 경화성 조성물은 1 메가헤르츠에서의 유전 상수가 3.0 이하인 비결정질의 광학적으로 투명한(optically clear) 층을 형성한다. Low dielectric constant curable compositions include a first alkyl (meth)acrylate monomer with 12 or more carbon atoms, a crosslinking monomer, a copolymeric additive of a polyisobutylene-polysiloxane block copolymer, and at least one initiator. The curable composition is solvent free and inkjet printable. Upon curing the curable composition forms a non-crystalline, optically clear layer with a dielectric constant of less than or equal to 3.0 at 1 MegaHertz.
Bibliography:Application Number: KR20217016736