APPARATUS FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF SUBSTRATE AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE COMPRISING THE SAME

Disclosed is an apparatus for processing a substrate, capable of simplifying the circuit structure of a substrate temperature control device. The apparatus for processing a substrate according to the present invention includes: a chamber having a processing space for processing a substrate therein;...

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Main Authors PARK TAE DONG, KONG BYEONG HYEON, JU YUNSIK
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 08.07.2021
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Summary:Disclosed is an apparatus for processing a substrate, capable of simplifying the circuit structure of a substrate temperature control device. The apparatus for processing a substrate according to the present invention includes: a chamber having a processing space for processing a substrate therein; a support unit positioned in the chamber and including a support plate for supporting the substrate; a gas supply unit for supplying gas into the chamber; a plasma generating unit including a high-frequency power supply for providing high-frequency power and exciting the gas in the chamber into a plasma state; and a substrate temperature control unit for controlling the temperature of the substrate. The substrate temperature control unit includes: a plurality of heating units installed in different regions inside the support plate to adjust the temperature of the substrate for each region; a power supply unit for supplying power to the plurality of heating units; and a control unit for independently controlling each of the plurality of heating units. Each of the plurality of heating units may include: a heating element; and an electronic switch. 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 가지는 챔버; 상기 챔버 내에 위치하며 상기 기판을 지지하는 지지판을 포함하는 지지 유닛; 상기 챔버 내부로 가스를 공급하는 가스 공급 유닛; 고주파 전력을 제공하는 고주파 전원을 포함하며, 상기 챔버 내의 가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 플라즈마 발생 유닛; 및 상기 기판의 온도를 제어하는 기판 온도 제어 유닛;을 포함하고, 상기 기판 온도 제어 유닛은 상기 지지판의 내부의 서로 다른 영역에 설치되어 상기 기판의 온도를 영역별로 조절하는 복수의 가열 유닛; 상기 복수의 가열 유닛으로 전력을 공급하는 전력 공급부; 및 상기 복수의 가열 유닛 각각을 독립적으로 제어하는 제어부;를 포함하고, 상기 복수의 가열 유닛 각각은 발열체; 및 전자 스위치;를 포함할 수 있다.
Bibliography:Application Number: KR20190177485