기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법

• Main Authors: MATSUI HIROAKIRA, SUGIOKA SHINJI, KIMURA RYUICHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 29.06.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; CONTROLLING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS; PHYSICS; REGULATING; SEMICONDUCTOR DEVICES

기판 처리 장치에서 기판에 실시하는 처리의 커스터마이즈를 용이하게 실시하는 것을 목적으로 한다. 이 목적을 달성하기 위해서, 기판 처리 장치는, 2 개 이상의 약액 처리부와 기억부와 제어부를 구비한다. 각 약액 처리부는, 처리조와 액 공급부를 포함한다. 처리조는, 처리액으로 기판에 처리를 실시한다. 액 공급부는, 처리조에 처리액을 공급한다. 기억부는, 각 약액 처리부에 대해 기판의 단위 처리량당의 처리액의 공급량에 관한 수치 정보를 기억한다. 제어부는, 취득부와 인식부와 산출부와 공급 제어부를 갖는다. 산출부는, 수치 정보 중 인식부에서 인식된 1 개의 약액 처리부에 대응하는 기판의 단위 처리량당의 처리액의 공급량에 관한 수치와, 취득부에서 취득된 처리량 정보에 기초하여, 1 개의 약액 처리부의 처리조에 공급하는 처리액의 공급량에 관한 수치를 산출한다. 공급 제어부는, 산출부에서 산출된 수치에 따라, 액 공급부에서 처리액을 처리조에 공급시킨다. The purpose of the present invention is to easily customize a treatment performed on a substrate by a substrate treatment device. In order to achieve the purpose, this substrate treatment device is provided with two or more chemical liquid treatment units, a storage unit, and a control unit. The chemical liquid treatment unit includes a treatment tank and a liquid supply unit. In the treatment tank, a substrate is treated by a treatment liquid. The liquid supply unit supplies the treatment tank with the treatment liquid. The storage unit stores numerical information about the supply amount of the treatment liquid for each unit treatment amount of the substrate with respect to each of the chemical treatment units. The control unit has an acquisition unit, a recognition unit, a calculation unit, and a supply control unit. The calculation unit calculates the numerical value related to the supply amount of the treatment liquid supplied to the treatment tank of one chemical liquid treatment unit on the basis of the numerical value related to the supply amount of the treatment liquid for each unit treatment amount of the substrate corresponding to the one chemical liquid treatment unit recognized by the recognition unit, and treatment amount information acquired by the acquisition unit, among the numerical information. The supply control unit supplies the treatment tank with the treatment liquid through the liquid supply unit according to the numerical value calculated by the calculation unit.