리소그래피 장치의 포커스 성능을 측정하는 장치들 및 패터닝 디바이스들 및 방법들, 디바이스 제조 방법

• Main Author: STAALS FRANK
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 22.06.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

리소그래피 장치의 포커스 성능을 측정하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 리소그래피 장치를 사용하여 기판 상에 적어도 하나의 포커스 메트롤로지 패턴을 프린트하는 단계 -프린트된 포커스 메트롤로지 패턴은 피처들의 적어도 제 1 주기적 어레이를 포함함- , 및 검사 방사선을 사용하여 프린트된 포커스 메트롤로지 패턴에서의 제 1 주기적 어레이에 대한 회절 스펙트럼의 반대 부분들 간의 비대칭을 측정하는 단계를 포함한다. 포커스 성능의 측정은 측정되는 비대칭에 적어도 부분적으로 기초하여 도출된다. 제 1 주기적 어레이는 피처들을 갖지 않는 공간 구역, 및 주 몸체로부터 돌출된 서브-피처들을 포함한 적어도 하나의 제 1 피처 및 적어도 하나의 제 2 피처를 갖는 패턴 구역의 반복 배열을 포함하며, 제 1 피처 및 제 2 피처는 측정 동안 단일 피처로서 효과적으로 검출되도록 충분히 근접하여 있다. 또한, 상기 제 1 주기적 어레이를 포함하는 패터닝 디바이스가 개시된다. Disclosed is a method of measuring focus performance of a lithographic apparatus. The method comprises using the lithographic apparatus to print at least one focus metrology pattern on a substrate, the printed focus metrology pattern comprising at least a first periodic array of features, and using inspection radiation to measure asymmetry between opposite portions of a diffraction spectrum for the first periodic array in the printed focus metrology pattern. A measurement of focus performance is derived based at least in part on the asymmetry measured. The first periodic array comprises a repeating arrangement of a space region having no features and a pattern region having at least one first feature comprising sub-features projecting from a main body and at least one second feature; and wherein the first feature and second feature are in sufficient proximity to be effectively detected as a single feature during measurement. A patterning device comprising said first periodic array is also disclosed.